龙岩等离子|在线等离子表面处理机|捷纳特(推荐商家)

等离子去除光致抗蚀剂

在晶片制造工艺中，使用氧等离子体去除晶片表面抗蚀刻(photoresist)。干式工艺唯yi的缺点是等离子体区的活性粒子可能会对一些电敏感性的设备造成损害。为了解决这一问题，在线等离子表面处理机，人们发展了几种工艺，其一是用一个法拉第装置以隔离轰击晶片表面的电子和离子;另一种方法是将清洗蚀刻对象置于活性等离子区之外。(顺流等离子清洗)蚀刻率因电压、气压以及胶的量而定，典型的刻蚀率为100nm/min，正常需要10min。

等离子体清洗机理

等离子体技术在本世纪60年代起就开始应用于化学合成、薄膜制备、表面处理和精细化工等领域，等离子发生器，在大规模或超大规模集成电路工艺干法化、低温化方面，近年来也开发应用了等离子体聚合、等离子体蚀刻、等离子体灰化及等离子体阳极氧化等全干法工艺技术。等离子清洗技术也是工艺干法化的进步成果之一。

与湿法清洗不同，等离子清洗的机理是依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。从目前各类清洗方法来看，可能等离子体清洗也是所有清洗方法中最为彻底的剥离式的清洗。

等离子机的应用

塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洁塑料、玻璃、陶瓷与聚丙烯、PTFE一样是没有极性的，因此这些材料在印刷、粘合、涂覆前要进行处理。同时，玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洁。等离子处理与灼烧处理相比不会损害样品。同时还可以十分均匀地处理整个表面，不会产生有毒烟气，中空和带缝隙的样品也可以处理。    

 等离子表面处理的效果可以简单地用水来验证，龙岩等离子，处理过的样品表面完全被水润湿。长时间的等离子处理（大于15分钟），材料表面不但被活化还会被刻蚀，刻蚀表面具有最da润湿能力。常用的处理qi体为：空气、氧气、混合气体、CF4等。