等离子处理设备|捷纳特|甘肃等离子

等离子体清洗的应用

一般来讲，甘肃等离子，清洗/蚀刻意思是去除产生

干扰的材料。清洗效果的两个实例是去除氧化物以提高钎焊质量和去除金属、陶瓷及塑料表面有机污染物以改善粘接性能。等离子体最初应用于硅片及混装电路的清洗以提高键接引线和钎焊的可靠性。如:去除半导体表面的有机污染以保证良好的焊点

相对而言，低温等离子设备，干法清洗在这些方面有较大优势，特别是以等离子清洗技术为主的清洗技术已逐步在半导体、电子组装、精密机械等行业开始应用。因此，有必要了解等离子清洗的机理及其应用工艺。

等离子体清洗作用         

1．等离子体    

   等离子体是1927年在低压shui银蒸气在高压电场中放电实验中发现的。

   在电场中保持低压状态的氧气、氮气、甲烷、水蒸气等气体分子，在辉光放电的情况下，等离子清洁，可以分解出加速运动的电子和解离成带有正、负电荷的原子和分子。另外，低压气体中存在的少量电子，在电场中被加速时获得高能量并与周围的分子或原子发生碰撞，结果使分子和原子中激发出电子，等离子处理设备，而本身又处于激发状态或离子状态。把以这种形式存在的物质状态叫等离子体。  

等离子机的应用

塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洁塑料、玻璃、陶瓷与聚丙烯、PTFE一样是没有极性的，因此这些材料在印刷、粘合、涂覆前要进行处理。同时，玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洁。等离子处理与灼烧处理相比不会损害样品。同时还可以十分均匀地处理整个表面，不会产生有毒烟气，中空和带缝隙的样品也可以处理。    

 等离子表面处理的效果可以简单地用水来验证，处理过的样品表面完全被水润湿。长时间的等离子处理（大于15分钟），材料表面不但被活化还会被刻蚀，刻蚀表面具有最da润湿能力。常用的处理qi体为：空气、氧气、混合气体、CF4等。