等离子清洁_捷纳特精密_南昌等离子

所谓直接等离子体，亦称作反应离子蚀刻，是等离子的一种直接浸蚀形式。它的主要优势是高的

蚀刻率和高的均匀性。直接等离子体具有较低浸蚀，但工件却暴露在射线区。顺流等离子是种较弱的工艺，它适合去除厚为1～5nm的薄层。在射线区或等离子中，人们担心工件受到损坏，目前，这种担心还没有证据，看来只有在重复的高射线区和延长处理时间到60～120min才能发生，等离子清洁，正常情况下，这样的条件只在大的薄片及不是短时的清洗中。

等离子清洗技术

电子工业清洗是一个很广的概念，包括任何与去除污染物有关的工艺，但针对不同的对象，清洗的方法有很大的区别。目前在电子工业中已广泛应用的物理化学清洗方法，从运行方式来看，大致可分为两种:湿法清洗和干法清洗。湿法清洗已经在电子工业生产中广泛应用，清洗主要依靠物理和化学(溶剂)的作用，如在化学活性剂吸附、浸透、溶解、离散作用下辅以超声波、喷淋、旋转、沸腾、蒸气、摇动等物理作用下去除污渍，这些方法清洗作用和应用范围各有不同，清洗效果也有一定差别。

等离子清洗机的产品特点：

            ● 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠；

            ● 采用美国气体浮子流量计，流量显示准确；

            ●  独特的双路气体控制方式，南昌等离子，气体控制更加稳定；

            ●  舱体，管路，等离子处理设备，阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈；

            ● 手动，自动两种工作模式，射频等离子，可以根据用户需求任意切换；

            ● 智能程序化控制，可编程，自动完成整个实验过程；

        ● 无需任何耗材，使用成本低，无需特殊维护，保持仪器清洁即可。